151-0621-00L  Microsystems I: Process Technology and Integration

SemesterHerbstsemester 2022
DozierendeM. Haluska, C. Hierold
Periodizitätjährlich wiederkehrende Veranstaltung
LehrspracheEnglisch


KurzbeschreibungDie Stundenten werden in die Grundlagen der Mikrosystemtechnik, der Halbleiterphysik und der Halbleiterprozesstechnologie eingeführt und erfahren, wie die Herstellung von Mikrosystemen in einer Serie von genau definierten Prozessschritten erfolgt (Gesamtprozess und Prozessablauf).
LernzielDie Stundenten sind mit den Grundlagen der Mikrosystemtechnik und der Prozesstechnologie für Halbleiter vertraut und verstehen die Herstellung von Mikrosystemen durch die Kombination von Einzelprozesschritten ( = Gesamtprozess oder Prozessablauf).
Inhalt- Einführung in die Mikrosystemtechnik (MST) und in mikroelektromechanische Systeme (MEMS)
- Grundlegende Siliziumtechnologie: thermische Oxidation, Fotolithografie und Ätztechnik, Diffusion und Ionenimplantation, Dünnschichttechnik.
- Besondere Mikrosystemtechnologien: Volumen- und Oberflächenmikromechanik, Trocken- und Nassätzen, isotropisches und anisotropisches Ätzen, Herstellung von Balken und Membranen, Waferbonden, mechanische Eigenschaften von Dünnschichten.
Die Anwendung ausgewählter Technologien wird anhand von Fallstudien nachgewiesen.
SkriptHandouts (online erhältlich)
Literatur- S.M. Sze: Semiconductor Devices, Physics and Technology
- W. Menz, J. Mohr, O.Paul: Microsystem Technology
- Hong Xiao: Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology
- M. J. Madou: Fundamentals of Microfabrication and Nanotechnology, 3rd ed.
- T. M. Adams, R. A. Layton: Introductory MEMS, Fabrication and Applications
Voraussetzungen / BesonderesVoraussetzung: Physik I und II